SiC器件制造過程主要包括“光刻、清洗、摻雜、蝕刻、成膜、減薄”等工藝,其中,離子注入工藝是SiC摻雜的重要步驟,以滿足SiC器件耐高壓、大電流功能的實現。然而離子注入后,碳化硅材料的晶格損傷必須通過退火工藝進行修復。在SiC材料晶體生長過程中,退火工藝可以使硅原子獲得足夠的能量進行擴散和遷移,使結晶內部重新排列,促進雜質的合理分布,有利... 【查看詳情】
在半導體制造中,快速熱處理(RTP)被認為是半導體制程的一個重要步驟。因為半導體材料在晶體生長和制造過程中,由于各種原因會出現缺陷、雜質、位錯等結構性缺陷,導致晶格不完整,施加電場后的電導率較低。需要通過RTP快速退火爐進行退火處理,可以使材料得到修復,結晶體內部重新排列,可以消除硅片中的應力,jihuo或遷移雜質,使沉積或生長的薄膜更加... 【查看詳情】
在清洗上,晶圓表面的潤濕性對晶圓也會有一定的影響,親水性表面可以讓晶圓與清洗液更好地進行接觸,達到更理想有效的清洗效果;反之,疏水性表面與清洗液接觸則會形成水珠狀液滴,造成清洗效果不佳,會對后續的工藝造成不良影響,導致損失。因此,表面接觸角的測量成為了晶圓制造過程中不可或缺的步驟。在半導體晶圓材料的生產和制造過程中,表面的潤濕性是至關重要... 【查看詳情】
半導體快速退火爐(Rapid Thermal Processing)的應用領域在于對半導體材料的處理。無論是硅(Si)、鍺(Ge)等傳統半導體材料,還是氮化鎵(GaN)、碳化硅(SiC)等寬禁帶半導體材料,快速退火爐都能發揮其獨特優勢。在高溫下,半導體材料會發生再結晶和缺陷修復過程,從而提高材料的結晶質量、減少晶體缺陷、改善電學性能。例如... 【查看詳情】
接觸角測量儀使用方法:在進行水滴角測試時,首先要選擇合適的液體和固體樣品。然后將液滴滴在表面上,通過攝像頭拍攝液滴形狀,并使用相應的軟件進行分析計算。得出水滴角值,評估表面性能。接觸角測量儀校準方法:為確保測試結果的準確性,接觸角測量儀需要定期進行校準。校準方法包括檢查光源、攝像頭、液滴和固體樣品的清潔度,調整環境溫濕度等。還需要使用標準... 【查看詳情】
接觸角的概念:所謂接觸角就是固一液界面與氣一液界面之切線在三相點處的夾角。接觸角的大小決定了潤濕程度,接觸角本身取決于界面張力的相對大小。固體表面能被液體潤濕,接觸角越小.潤濕性越大,鋪展性也愈大,當接觸角為零時,叫完全潤濕;固體表面不被液體潤濕,說明接觸角越大,潤濕性越小,輔展性越小,液面易收縮成球形。當接觸角等于180度時,叫完全不潤... 【查看詳情】
接觸角測量儀在生物醫學領域中的應用:1、生物材料表面特性分析:生物材料的表面性質對于其在生物體內的應用有很大的影響。接觸角測量儀可以用于評估生物材料的表面潤濕性、表面能、表面粗糙度、表面反應性等特性,為生物材料的設計和優化提供重要的參考數據。2、培養皿表面分析:接觸角測量儀可以用于研究培養皿表面的附著性和形態變化等行為,評估表面親疏水性能... 【查看詳情】
隱形眼鏡直接接觸眼睛,其潤濕性是決定配戴舒適度的重要因素之一。當淚液在鏡片表面的接觸角越小,它的鋪展程度就越大,形成的眼淚薄膜也越穩定,對眼表能起到良好的保濕和潤滑作用。在鍍膜前通過等離子處理可以有效提高鏡片表面潤濕性,提升隱形眼鏡品質,改善客戶的佩戴體驗效果。為了評估隱形眼鏡的表面潤濕性,需要測量其接觸角大小。晟鼎曲面擬合法結合曲面建模... 【查看詳情】
作為光學方法,光學接觸角測量儀的測量精度取決于圖片質量和分析軟件。視頻光學接觸角測量儀使用一個高質量的單色冷LED光源,在實際測試過種中,為了避免重力影響,我們都是應用1微升到2微升的液滴進行測試,,為了避免小水滴揮發,使用冷光源可讓水滴蒸發量降低。同時,高分辨率數碼鏡頭、高質量的光學器件和液體擬合方法確保了圖片質量。這個投影屏幕千分計帶... 【查看詳情】
RTP(Rapid Thermal Processing)快速退火爐是一種用于半導體器件制造和材料研究的設備,其工作原理是通過快速升溫和降溫來處理材料,以改變其性質或結構。RTP退火爐通常用于離子注入退火、ITO鍍膜后快速退火、氧化物和氮化物生長等應用。RTP快速退火爐的技術主要包括反應腔室(包括熱源)設計、溫度測量技術和溫度控制技術,其... 【查看詳情】
假設液滴靜止在固體表面上,且與液滴沉積后某一時間的差異相比,很快達到平衡,則前款的接觸角數據非常有用。然而,這只適用于數據變化不大的情況。例如,假設在液體和固體界面是動態的情況下,存在各種狀態,例如涂層或清洗,則無法獲得足夠的數據。這種情況模擬(隨著前進接觸角和后退接觸角)液滴界面移動并不斷增加的動態情況。用個人電腦進行這種分析已經成為一... 【查看詳情】