所述u形架的下端通過軸承轉動安裝在后罐體的內部下側,所述u形架的外側固定安裝有刮板,所述刮板的外側與后罐體、前罐體的內表面緊密貼合,所述后罐體和前罐體的上表面外側均勻開設有通孔,所述通孔從上至下向外傾斜,所述通孔的內部固定安裝有噴頭。推薦的,所述驅動裝置包括半圓板,所述前罐體的前表面上側開設有與半圓板匹配的半圓槽,所述半圓板的上表面開設有轉軸通孔,所述半圓板的上表面固定安裝有防護罩和減速電機,所述防護罩罩接在減速電機的外側,所述減速電機的輸出軸轉動安裝在轉軸通孔的內部,所述減速電機輸出軸的下端與u形架固定裝配。推薦的,所述前罐體的下表面后側安裝有集料盒,所述集料盒包括出料口,所述出料口的下側固定安裝有外螺管,所述外螺管的外側螺接有收集盒。推薦的,所述控制箱的內部左側固定安裝有清洗箱和泵,所述清洗箱固定安裝在泵的右側,所述泵通過軟管與噴頭固定裝配。推薦的,所述控制箱、減速電機、泵通過導線電連接,且控制箱與外部電源連接。與現有技術相比,本實用新型的有益效果是:該磁控濺射真空鍍膜機,能夠通過清理裝置與驅動裝置的配合,對鍍膜機腔體內壁粘黏的靶材和雜質進行自動刮除清理,不需人力手動擦拭。 寶來利真空鍍膜設備性能穩定,膜層均勻耐磨,五金制品鍍膜,有需要可以咨詢!靶材真空鍍膜設備定制
優化鍍膜過程的溫度、壓力和時間控制:溫度對于材料的蒸發率和沉積速率有明顯影響,精確的溫度控制可以優化膜層的均勻性和附著力。在真空環境中,控制適當的壓力是確保蒸發材料以適當速率沉積的關鍵。改進真空真空鍍膜機的鍍膜速度:可以通過提高真空度、使用高功率蒸發源、優化蒸發工藝、采用多個蒸發源、使用新型材料和增加基底加熱等方式來提升鍍膜速度。優化設備結構和自動化控制:對真空鍍膜機的結構進行優化設計,解決影響光學薄膜質量和超多層精密光學薄膜鍍制的問題,提高薄膜的監控精度,實現系統的自動控制,提高生產效率,降低生產成本。浙江光學鏡片真空鍍膜設備哪家便宜品質真空鍍膜設備,請選丹陽市寶來利真空機電有限公司,有需要可以來咨詢!
本實用新型涉及真空鍍膜技術領域,具體為一種高分子等離子表面真空鍍膜設備。背景技術:真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發并凝結于鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法,例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等,真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面,它是以真空技術為基礎,利用物理或化學方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術,為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝,簡單地說,在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射,使其在被涂覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法,稱為真空鍍膜。現有的真空鍍膜設備雖然能夠完成鍍膜的工作,但是當鍍膜公祖完成后,由于腔體內部仍然處于真空狀態,與外界環境具有一定的壓強差,若過早打開密封門,坩堝溫度依然很高,鍍膜材料容易發生噴濺,造成危險,若等坩堝降溫后再打開密封門,會耗費較多的時間,影響工作效率。技術實現要素:針對現有技術的不足,本實用新型提供了一種高分子等離子表面真空鍍膜設備,解決了若過早打開密封門,鍍膜材料容易發生噴濺,造成危險,若等坩堝降溫后再打開密封門,會耗費較多的時間。
因此可以有效減少工藝原料的浪費,降低原料的使用成本,提高原料的利用率。同時,由于工藝反應區的減少,可以有效控制該區域內的溫度,使該區域內的工藝溫度更易于均勻化,進而提高工藝質量。附圖說明此處的附圖被并入說明書中并構成本說明書的一部分,示出了符合本實用新型的實施例,并與說明書一起用于解釋本實用新型的原理。為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案,下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,對于本領域普通技術人員而言,在不付出創造性勞動性的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本實用新型一種實施方式的真空反應腔室的結構示意圖;圖2為圖1所示結構中的剖視結構示意圖;圖3為設置于第二底板底部的溫控管的結構示意圖。圖標:10-外腔體;11-寶來利真空底板;12-寶來利真空側壁;13-傳送裝置;20-內反應腔;21-第二底板;22-第二側壁;23-自動門;30-密封蓋板;40-溫控管;41-恒溫控制器。具體實施方式為使本實用新型實施例的目的、技術方案和***更加清楚,下面將結合本實用新型實施例中的附圖,對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然。 擁有專利的工件架技術,轉速平穩可調,具有產量大,效率高,產品良品率高等特點 中頻磁控鍍膜設備濺射。
所描述的實施例寶來利寶來利是本實用新型一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本實用新型保護的范圍。請參閱圖1-5,本實用新型提供一種技術方案:一種高分子等離子表面真空鍍膜設備,包括腔體1、基板2和坩堝3,腔體1內壁底部的兩側分別固定連接有加熱器和冷凝器,坩堝3放置在加熱板14的頂部,腔體1左側的底部固定連接有抽風機21,并且抽風機21進風口的一端連通有風管22,風管22遠離抽風機21的一端貫穿腔體1并延伸至腔體1的內部,腔體1左側的頂部固定連接有電機16,電機16通過導線與控制開關及外部電源連接,并且電機16輸出軸的一端固定連接有雙向螺紋桿17,雙向螺紋桿17表面的兩側且位于腔體1的內部均螺紋連接有活動塊18,兩個活動塊18的底部均固定連接有限位板19,兩個限位板19相對的一側均開設有與基板2相適配的限位槽,并且兩個活動塊18的頂部均通過第二滑軌20與腔體1內壁的頂部滑動連接,雙向螺紋桿17遠離電機16的一端貫穿腔體1并延伸至腔體1的內部,雙向螺紋桿17位于腔體1內部的一端與腔體1內壁的右側通過軸承轉動連接,腔體1底部的四角均固定連接有支撐腿4。 磁控濺射原理鍍制,用于在已預處理好的玻璃、陶瓷等制品表面PVD鍍反映膜,從而獲得光亮、美觀。江蘇燙鉆真空鍍膜設備定制
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這樣就可以及時打開密封門,將基板取出準備下一次鍍膜,能夠有效防止鍍膜材料噴濺,且省去坩堝降溫的時間,提高了工作效率。(2)、該高分子等離子表面真空鍍膜設備,通過腔體左側的頂部固定連接有電機,并且電機輸出軸的一端固定連接有雙向螺紋桿,雙向螺紋桿表面的兩側且位于腔體的內部均螺紋連接有活動塊,兩個活動塊的底部均固定連接有限位板,電機工作能夠調整兩個限位板之間的距離,使限位板能夠固定不同大小的基板,擴大了適用范圍,適用性更強,提高了實用性。附圖說明圖1為本實用新型結構的立體圖;圖2為本實用新型結構的剖視圖;圖3為本實用新型圖2中a處的局部放大圖;圖4為本實用新型寶來利真空密封蓋結構的立體圖;圖5為本實用新型第二密封蓋結構的立體圖。圖中:1腔體、2基板、3坩堝、4支撐腿、5密封門、6支撐板、7防護框、8寶來利真空滑軌、9活動板、10寶來利真空伸縮桿、11第二伸縮桿、12寶來利真空密封蓋、13第二密封蓋、14加熱板、15降溫板、16電機、17雙向螺紋桿、18活動塊、19限位板、20第二滑軌、21抽風機、22風管。具體實施方式下面將結合本實用新型實施例中的附圖,對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然。 靶材真空鍍膜設備定制
鍍膜過程特點氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)方式并存PVD 特點:蒸發鍍膜:在 PVD 蒸發鍍膜過程中,材料的蒸發源是關鍵。常見的有電阻加熱蒸發源和電子束加熱蒸發源。電阻加熱蒸發源結構簡單,成本較低,通過電流加熱使鍍膜材料蒸發。例如,在鍍金屬薄膜時,將金屬絲(如鋁絲)放在鎢絲加熱籃中,當鎢絲通電發熱時,金屬絲受熱蒸發。電子束加熱蒸發源則適用于高熔點材料,它利用聚焦的電子束轟擊鍍膜材料,使材料局部高溫蒸發,這種方式可以精確控制蒸發區域和蒸發速率。品質真空鍍膜設備膜層附著力好,請選丹陽市寶來利真空機電有限公司,有需要可以來咨詢考察!浙江太陽鏡真空鍍膜設備制造商 真空鍍膜設備是一種通過在...