多弧離子真空鍍膜機BLL-1350PVD型常規(guī)配置；

真空系統(tǒng)真空泵:2X-70SV300E2M275增壓泵:ZJP600WAU2001EH2600高真空泵:分子泵低溫泵擴散泵真空室加熱系統(tǒng):最高溫度:0到200℃型號:不銹鋼管裝加熱器基片架盤型號:12軸公轉(zhuǎn)或公自轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速:0到30轉(zhuǎn)數(shù)/分軟啟，軟停，可調(diào)速電器控制系統(tǒng):PC和PLC控制VAC系統(tǒng):進口復(fù)合真空計MFC系統(tǒng):進口質(zhì)量流量控制器;進口電磁閥APC系統(tǒng)偏壓電源:直流脈沖電源濺射電源:直流脈沖電源電源;中頻電源弧源:多弧，平面，孿生，柱靶深冷系統(tǒng):DW-3全程自動控制鍍膜，保障生產(chǎn)產(chǎn)品的一致性，重復(fù)性，穩(wěn)定性。 真空鍍膜機的操作簡單，易于維護。河北多弧離子真空鍍膜機廠家

    真空鍍膜機的鍍膜效果通常通過多個評估指標來進行綜合評估。以下是一些常見的用于評估鍍膜效果的指標：1.鍍層附著力：衡量涂層與基底之間的結(jié)合強度。通常通過切割試驗、微觀觀察或拉伸測試等方法來評估。2.表面粗糙度：描述涂層表面的光滑程度和均勻性。可以使用表面粗糙度儀或掃描電子顯微鏡等工具進行測量。3.光學(xué)性能：包括透過率、反射率、吸收率等光學(xué)特性。對于光學(xué)涂層，這些參數(shù)直接影響其在光學(xué)器件中的性能。4.厚度均勻性：衡量涂層在整個表面上的厚度分布。通過測量不同位置的涂層厚度來評估。5.硬度：描述涂層的硬度，對于一些工具涂層或防護性涂層而言，硬度是關(guān)鍵的性能指標。6.抗腐蝕性：衡量涂層對腐蝕和化學(xué)侵蝕的抵抗能力。可以通過暴露在惡劣環(huán)境中并觀察涂層變化來評估。7.電學(xué)性能：對于導(dǎo)電性涂層，包括電阻率、導(dǎo)電性等參數(shù)的測量。8.機械性能：包括彈性模量、抗拉強度等涂層在機械加載下的性能。9.外觀：觀察涂層的外觀，包括顏色、均勻性、無缺陷等。10.環(huán)保性能：衡量涂層制備過程對環(huán)境的影響，以及涂層本身是否符合環(huán)保標準。這些評估指標的選擇取決于涂層的具體用途和性質(zhì)。通常，為了獲得多角度的評估，會采用多種測試和分析方法。 江蘇手機鍍膜機定制光學(xué)真空鍍膜機是一種高精度的設(shè)備，用于在光學(xué)元件表面上制備高質(zhì)量的薄膜。

    高真空多層精密光學(xué)鍍膜機BLL-900F型常規(guī)配置;真空系統(tǒng)真空泵:2X-70SV300E2M275增壓泵:ZJP300WAU1001EH1200高真空泵:分子泵低溫泵擴散泵真空室加熱系統(tǒng):ZUI高溫度:0到400℃型號:不銹鋼管裝加熱器(選擇:紅外線燈管)基片架盤型號:球面型(選擇:平面型，公自轉(zhuǎn)，多行星型，可調(diào)角度行星盤)轉(zhuǎn)速:0到30轉(zhuǎn)數(shù)/分軟啟，軟停，可調(diào)速電器控制系統(tǒng):PC和PLC控制VAC系統(tǒng):進口復(fù)合真空計MFC系統(tǒng):進口質(zhì)量流量控制器;進口電磁閥:APC系統(tǒng)鍍膜沉積控制系統(tǒng):晶控美國產(chǎn)IC-6，XTC-3S/M，INFICON310.石英晶體感應(yīng)器:1，2，6頭光控控制:國產(chǎn)光控(或進口光控)離子源:霍兒源(或考夫曼，RF源)電子束源-容量:10KW180°或270°電子槍深冷系統(tǒng)真空室麥斯納阱擴散泵冷阱全程自動控制鍍膜以達到產(chǎn)品ZUI終所需要求。

真空鍍膜機的類型有以下幾種：1.磁控濺射鍍膜機：利用磁控濺射技術(shù)進行鍍膜，適用于金屬、陶瓷等材料的鍍膜。2.電弧離子鍍膜機：利用電弧放電技術(shù)進行鍍膜，適用于金屬、陶瓷等材料的鍍膜。3.激光鍍膜機：利用激光蒸發(fā)技術(shù)進行鍍膜，適用于高溫材料的鍍膜。4.離子鍍膜機：利用離子束轟擊技術(shù)進行鍍膜，適用于金屬、陶瓷等材料的鍍膜。5.真空噴涂機：利用真空噴涂技術(shù)進行鍍膜，適用于金屬、陶瓷等材料的鍍膜。6.磁控濺射離子鍍膜機：結(jié)合了磁控濺射和離子束轟擊技術(shù)，適用于金屬、陶瓷等材料的高質(zhì)量鍍膜。磁控濺射真空鍍膜機是一種高效的表面處理設(shè)備。

    BLL-1500F燈管真空鍍膜機

1.工藝文件選擇框；2.為廠家的每一爐產(chǎn)品識別號（如沒有則不用輸入），使用可方便日后查找鍍膜過程記錄文件；3.讀取當前選擇工藝文件按鈕；4.點擊可打開當前所選擇的Excel文件；5.晶控復(fù)位按鈕，可以恢復(fù)晶控里一些生產(chǎn)廠家預(yù)設(shè)；6.用于鍍膜過程中出現(xiàn)突發(fā)狀況的暫停，點擊之后可對設(shè)備做任何操作（如放氣，開門，斷電，重啟），完成之后只需繼續(xù)按鈕，就可以繼續(xù)執(zhí)行暫停時執(zhí)行的膜層未完成的膜厚；7.鍍膜手自動開始選擇按鈕，選擇自動時，則當真空點1E-3Pa為綠、鍍膜溫度、滿足時自動開始執(zhí)行當前所選擇工藝文件；8工藝開始時蜂鳴器響2下提示音。11處可以打開深冷控制畫面1.深冷溫控表，溫度設(shè)置和顯示窗口（PV為實際值，SV為設(shè)定值，上限為最高溫度，下限為最低溫度）；2.深冷預(yù)冷時間為固定25分鐘，每次開機（無論手動自動都需要預(yù)冷），預(yù)冷時“預(yù)冷中”閃爍，預(yù)冷完成后常綠。3.制冷需滿足RP開啟、“1E+3Pa”條件4.真空室放氣（充大氣）前深冷必須先除霜，除霜時間3分鐘（自動控制時會自動執(zhí)行除霜）10/13二.正常抽真空流程確認壓縮空氣，冷卻水正常后可以開始抽真空；①手動方式：冷機狀態(tài)→開機械泵RP→開前級閥HV→開分子泵FP。 真空鍍膜機可以制備光學(xué)薄膜、防反射膜、導(dǎo)電膜等。河南PVD真空鍍膜機定制

光學(xué)真空鍍膜機廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、航空航天等領(lǐng)域。河北多弧離子真空鍍膜機廠家

光學(xué)真空鍍膜機鍍制反射膜的過程通常包括以下步驟：1.準備基板：選擇適當?shù)幕澹ǔ椴ＡЩ蛩芰系韧该鞑牧稀?.清潔基板：使用專門的清潔劑和設(shè)備清潔基板表面，確保表面無雜質(zhì)和污漬。3.抽真空：將鍍膜室抽成真空狀態(tài)，以消除空氣中的氣體和水分等干擾因素。4.加熱基板：通過加熱器將基板加熱到適當?shù)臏囟龋栽黾颖砻娴母街土鲃有浴?.蒸發(fā)鍍膜：使用蒸發(fā)源將金屬或合金等材料蒸發(fā)到基板上，形成一層或多層金屬薄膜。6.控制厚度：通過控制蒸發(fā)時間和速率來控制薄膜的厚度和反射率。7.冷卻和固化：在鍍膜完成后，通過冷卻系統(tǒng)將基板冷卻到室溫，使薄膜固化。8.檢測和調(diào)整：使用光學(xué)檢測設(shè)備對鍍膜后的反射膜進行檢測和調(diào)整，確保反射率和光學(xué)性能符合要求。需要注意的是，反射膜的鍍制過程中需要注意控制溫度、真空度、蒸發(fā)速率等參數(shù)，以確保薄膜的質(zhì)量和穩(wěn)定性。同時，對于不同的基板和材料，需要根據(jù)具體情況進行適當?shù)恼{(diào)整和處理。 河北多弧離子真空鍍膜機廠家

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