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企業(yè)商機(jī)
鍍膜機(jī)基本參數(shù)
  • 品牌
  • BLLVAC
  • 型號
  • 1350
  • 是否定制
鍍膜機(jī)企業(yè)商機(jī)

BLL-1680RS濺射鍍膜機(jī)工藝操作(摘選)

①工藝自動前提條件,設(shè)備必須在自動,自抽模式下,手動模式下不會自動執(zhí)行工藝。②工藝自動情況下,在滿足真空度,抽真空時間,鍍膜溫度后,自動執(zhí)行所選擇的工藝,進(jìn)行輝光清洗→弧光清洗→沉積,所有沉積層計時完成后,工藝完成。③工藝自動執(zhí)行過程中,可以通過點擊相應(yīng)過程按鈕終止當(dāng)前流程,例:此時工藝流程輝光清洗已經(jīng)完成,進(jìn)行到弧光清洗中,則單擊弧光清洗按鈕可以停止當(dāng)前流程。④工藝自動執(zhí)行到沉積層任意一層時,如遇問題,點擊暫停按鈕可停止當(dāng)前層沉積,排除問題后,點擊繼續(xù)按鈕即可繼續(xù)沉積(繼續(xù)時需保證所執(zhí)行的工藝沒有改變,以及弧光清洗已經(jīng)完成)。⑤手動沉積:工藝設(shè)置手動,在箭頭9處選擇開始層,然后點擊沉積按鈕,則執(zhí)行該層沉積。若該層手動開始后,改“工藝手動”為“工藝自動”,那么會按工藝自動執(zhí)行完該層后面的所有沉積層。 磁控濺射真空鍍膜機(jī)可以實現(xiàn)在線監(jiān)測和控制,可以提高生產(chǎn)過程的穩(wěn)定性和可靠性。廣東光學(xué)真空鍍膜機(jī)行價

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    高真空多層精密光學(xué)鍍膜機(jī)BLL-900F型常規(guī)配置;真空系統(tǒng)真空泵:2X-70SV300E2M275增壓泵:ZJP300WAU1001EH1200高真空泵:分子泵低溫泵擴(kuò)散泵真空室加熱系統(tǒng):ZUI高溫度:0到400℃型號:不銹鋼管裝加熱器(選擇:紅外線燈管)基片架盤型號:球面型(選擇:平面型,公自轉(zhuǎn),多行星型,可調(diào)角度行星盤)轉(zhuǎn)速:0到30轉(zhuǎn)數(shù)/分軟啟,軟停,可調(diào)速電器控制系統(tǒng):PC和PLC控制VAC系統(tǒng):進(jìn)口復(fù)合真空計MFC系統(tǒng):進(jìn)口質(zhì)量流量控制器;進(jìn)口電磁閥:APC系統(tǒng)鍍膜沉積控制系統(tǒng):晶控美國產(chǎn)IC-6,XTC-3S/M,INFICON310.石英晶體感應(yīng)器:1,2,6頭光控控制:國產(chǎn)光控(或進(jìn)口光控)離子源:霍兒源(或考夫曼,RF源)電子束源-容量:10KW180°或270°電子槍深冷系統(tǒng)真空室麥斯納阱擴(kuò)散泵冷阱全程自動控制鍍膜以達(dá)到產(chǎn)品ZUI終所需要求。 全國PVD真空鍍膜機(jī)市場價格真空鍍膜機(jī)可以提高產(chǎn)品的外觀質(zhì)量和使用壽命。

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光學(xué)真空鍍膜機(jī)鍍制反射膜的過程通常包括以下步驟:1.準(zhǔn)備基板:選擇適當(dāng)?shù)幕澹ǔ椴AЩ蛩芰系韧该鞑牧稀?.清潔基板:使用專門的清潔劑和設(shè)備清潔基板表面,確保表面無雜質(zhì)和污漬。3.抽真空:將鍍膜室抽成真空狀態(tài),以消除空氣中的氣體和水分等干擾因素。4.加熱基板:通過加熱器將基板加熱到適當(dāng)?shù)臏囟龋栽黾颖砻娴母街土鲃有浴?.蒸發(fā)鍍膜:使用蒸發(fā)源將金屬或合金等材料蒸發(fā)到基板上,形成一層或多層金屬薄膜。6.控制厚度:通過控制蒸發(fā)時間和速率來控制薄膜的厚度和反射率。7.冷卻和固化:在鍍膜完成后,通過冷卻系統(tǒng)將基板冷卻到室溫,使薄膜固化。8.檢測和調(diào)整:使用光學(xué)檢測設(shè)備對鍍膜后的反射膜進(jìn)行檢測和調(diào)整,確保反射率和光學(xué)性能符合要求。需要注意的是,反射膜的鍍制過程中需要注意控制溫度、真空度、蒸發(fā)速率等參數(shù),以確保薄膜的質(zhì)量和穩(wěn)定性。同時,對于不同的基板和材料,需要根據(jù)具體情況進(jìn)行適當(dāng)?shù)恼{(diào)整和處理。

光學(xué)真空鍍膜機(jī)的離子源選擇需要考慮以下幾個方面:1.離子源類型:根據(jù)不同的鍍膜需求,可以選擇不同類型的離子源,如離子束源、離子阱源、離子源等。離子束源適用于大面積均勻鍍膜,離子阱源適用于高精度鍍膜,離子源適用于局部鍍膜。2.離子源能量:離子源的能量決定了離子轟擊物體表面的效果,影響著膜層的致密性、平整度和附著力等。一般來說,離子源的能量應(yīng)根據(jù)不同的材料和鍍膜要求進(jìn)行調(diào)整。3.離子源流量:離子源的流量決定了離子轟擊物體表面的強(qiáng)度和時間,影響著膜層的厚度和均勻性等。一般來說,離子源的流量應(yīng)根據(jù)不同的材料和鍍膜要求進(jìn)行調(diào)整。4.離子源位置:離子源的位置決定了離子轟擊物體表面的方向和范圍,影響著膜層的均勻性和質(zhì)量等。一般來說,離子源應(yīng)位于物體表面的正上方,并且與物體表面的距離應(yīng)適當(dāng)。綜合考慮以上因素,可以選擇合適的離子源,以滿足不同的光學(xué)鍍膜需求。光學(xué)真空鍍膜機(jī)的鍍膜層具有高耐腐蝕性、高耐熱性等特點。

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光學(xué)真空鍍膜機(jī)的日常維護(hù)保養(yǎng)注意事項;

維護(hù)和保養(yǎng)1保持設(shè)備所需正常工作環(huán)境,溫度不應(yīng)高于40℃,相對濕度不得大于80%,冷卻水進(jìn)水溫度不得高于25℃,水壓不得低于0.20MPa,進(jìn)出水不得低于0.1MPa給氣壓力0.5~0.6MPa。水氣壓力不夠鍍膜機(jī)會自動停止工作。2電控柜、主機(jī),電子Q電源柜都應(yīng)25MM銅線良好接地,以保護(hù)操作者人身安全。3要每班經(jīng)常清潔真空室,避免鍍膜材料沉積污染影響正常生產(chǎn)。4保護(hù)套板勤更換清洗,保持真空室內(nèi)清潔。5高低壓接線柱,碘鎢燈接線部位,電子QQ頭應(yīng)避免鍍膜材料沉積。6經(jīng)常檢查轉(zhuǎn)動是否正常,及時拆下清洗軸承,避免不轉(zhuǎn)。7鍍膜機(jī)在正常工作時,決不允許斷水、停氣、停電。(觸摸屏有報警顯示)如突然停電,要關(guān)閉各電氣開關(guān),強(qiáng)制通水冷卻各個泵,避免真空泵過熱。8分子泵經(jīng)較長時間(4~6個月)使用或其他原因造成泵油散熱效果下降,致高真空抽速明顯下降時,則需換油。9機(jī)械泵定期檢查和換油,第1次使用1個月后換油,第2次使用3個月后換油,第3次使用6個月后換油,以后定期加油。10羅茨泵定期檢查和加油。11非專業(yè)人員不要打開主機(jī)座電控柜q電源蓋板,以防觸電!12各配套產(chǎn)品請仔細(xì)閱讀各自的使用說明書。 光學(xué)真空鍍膜機(jī)可以進(jìn)行定制化設(shè)計,以滿足客戶的個性化需求。江蘇光學(xué)真空鍍膜機(jī)制造

真空鍍膜機(jī)可以在物體表面形成一層薄膜,提高其性能。廣東光學(xué)真空鍍膜機(jī)行價

光學(xué)真空鍍膜機(jī)是一種用于在光學(xué)零件表面上鍍上一層或多層金屬或介質(zhì)薄膜的設(shè)備。這種工藝過程廣泛應(yīng)用于減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等方面,以滿足不同的需求。光學(xué)真空鍍膜機(jī)的原理是利用光的干涉原理在薄膜光學(xué)中廣泛應(yīng)用。它通常采用真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜,以控制基板對入射光束的反射率和透過率。光學(xué)真空鍍膜機(jī)可鍍制各種膜系,如短波通、長波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、介質(zhì)膜、高反膜、帶通膜、彩色反射膜等。它能夠?qū)崿F(xiàn)0-99層膜的膜系鍍膜,滿足汽車反光玻璃、望遠(yuǎn)鏡、眼鏡片、光學(xué)眼鏡頭、冷光杯等產(chǎn)品的鍍膜要求。此外,光學(xué)真空鍍膜機(jī)還配置了不同的蒸發(fā)源、電子槍、離子源及鍍膜厚儀,可以鍍多種膜系,包括金屬、氧化物、化合物及其他高熔點膜材。同時,它還可以在玻璃表面進(jìn)行超硬處理。總的來說,光學(xué)真空鍍膜機(jī)是一種高度專業(yè)化的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于光學(xué)制造領(lǐng)域。 廣東光學(xué)真空鍍膜機(jī)行價

丹陽市寶來利真空機(jī)電有限公司在同行業(yè)領(lǐng)域中,一直處在一個不斷銳意進(jìn)取,不斷制造創(chuàng)新的市場高度,多年以來致力于發(fā)展富有創(chuàng)新價值理念的產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn),在江蘇省等地區(qū)的機(jī)械及行業(yè)設(shè)備中始終保持良好的商業(yè)口碑,成績讓我們喜悅,但不會讓我們止步,殘酷的市場磨煉了我們堅強(qiáng)不屈的意志,和諧溫馨的工作環(huán)境,富有營養(yǎng)的公司土壤滋養(yǎng)著我們不斷開拓創(chuàng)新,勇于進(jìn)取的無限潛力,丹陽市寶來利真空機(jī)電供應(yīng)攜手大家一起走向共同輝煌的未來,回首過去,我們不會因為取得了一點點成績而沾沾自喜,相反的是面對競爭越來越激烈的市場氛圍,我們更要明確自己的不足,做好迎接新挑戰(zhàn)的準(zhǔn)備,要不畏困難,激流勇進(jìn),以一個更嶄新的精神面貌迎接大家,共同走向輝煌回來!

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PLD激光濺射沉積鍍膜機(jī)原理:利用高能激光束轟擊靶材,使靶材表面的物質(zhì)以原子團(tuán)或離子形式濺射出來,并沉積在基片上形成薄膜。電阻蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備原理:通過電阻加熱使靶材蒸發(fā),蒸發(fā)的物質(zhì)沉積在基片上形成薄膜。電子束蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備原理:利用電子束轟擊靶材,使靶材蒸發(fā)并沉積在基片上形成薄膜。離子鍍真空鍍膜設(shè)備原理:在真空環(huán)境中,利用氣體放電產(chǎn)生的離子轟擊靶材,使靶材物質(zhì)濺射出來并沉積在基片上形成薄膜。磁控反應(yīng)濺射真空鍍膜設(shè)備原理:在磁控濺射的基礎(chǔ)上,引入反應(yīng)氣體與濺射出的靶材原子或分子發(fā)生化學(xué)反應(yīng),形成化合物薄膜。品質(zhì)鍍膜機(jī),就選丹陽市寶來利真空機(jī)電有限公司,需要的話可以電話聯(lián)系我司哦。江蘇PVD真...

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