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企業(yè)商機(jī)
鍍膜機(jī)基本參數(shù)
  • 品牌
  • BLLVAC
  • 型號(hào)
  • 1350
  • 是否定制
鍍膜機(jī)企業(yè)商機(jī)

    風(fēng)鏡真空鍍膜機(jī)是一款高科技產(chǎn)品,它采用先進(jìn)的真空鍍膜技術(shù),能夠?yàn)椴馁|(zhì)的表面進(jìn)行高效、均勻的鍍膜處理。作為我們公司的產(chǎn)品,風(fēng)鏡真空鍍膜機(jī)在風(fēng)鏡、頭盔等領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。首先,風(fēng)鏡真空鍍膜機(jī)具有高效、穩(wěn)定的鍍膜效果。它采用先進(jìn)的真空鍍膜技術(shù),能夠在短時(shí)間內(nèi)完成高質(zhì)量的鍍膜處理,而且鍍膜效果均勻、穩(wěn)定,不易出現(xiàn)色差、氣泡等問(wèn)題。這一特點(diǎn)使得風(fēng)鏡真空鍍膜機(jī)在滑雪鏡、頭盔等產(chǎn)品的生產(chǎn)中得到了廣泛的應(yīng)用。其次,風(fēng)鏡真空鍍膜機(jī)具有高度的自動(dòng)化程度。它采用先進(jìn)的控制系統(tǒng)和自動(dòng)化設(shè)備,能夠?qū)崿F(xiàn)全自動(dòng)化的生產(chǎn)過(guò)程,提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。這一特點(diǎn)使得風(fēng)鏡真空鍍膜機(jī)在大規(guī)模生產(chǎn)中具有明顯的優(yōu)勢(shì),能夠滿(mǎn)足客戶(hù)的多樣化需求。此外,風(fēng)鏡真空鍍膜機(jī)還具有環(huán)保、節(jié)能的特點(diǎn)。它采用先進(jìn)的真空鍍膜技術(shù),不需要使用有害化學(xué)物質(zhì),對(duì)環(huán)境沒(méi)有污染,同時(shí)還能夠節(jié)約能源,降低生產(chǎn)成本。這一特點(diǎn)使得風(fēng)鏡真空鍍膜機(jī)在環(huán)保、節(jié)能意識(shí)日益提高的,具有更廣闊的市場(chǎng)前景。總之,風(fēng)鏡真空鍍膜機(jī)是一款高效、穩(wěn)定、自動(dòng)化、環(huán)保、節(jié)能的產(chǎn)品,具有廣泛的應(yīng)用前景。我們相信,在未來(lái)的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中,風(fēng)鏡真空鍍膜機(jī)將會(huì)成為為客戶(hù)提供更理想的產(chǎn)品和服務(wù)。 磁控濺射真空鍍膜機(jī)廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、航空航天等領(lǐng)域。河北光學(xué)真空鍍膜機(jī)規(guī)格

河北光學(xué)真空鍍膜機(jī)規(guī)格,鍍膜機(jī)

    高真空多層精密光學(xué)鍍膜機(jī)BLL-1200F型常規(guī)配置;真空系統(tǒng)真空泵:2X-70SV300E2M275增壓泵:ZJP300WAU1001/2001EH1200/EH2600高真空泵:分子泵低溫泵擴(kuò)散泵真空室加熱系統(tǒng)ZUI高溫度:0到400℃型號(hào):不銹鋼管裝加熱器(選擇:紅外線(xiàn)燈管)基片架盤(pán)型號(hào):球面型(選擇:平面型,公自轉(zhuǎn),多行星型,可調(diào)角度行星盤(pán))轉(zhuǎn)速:0到30轉(zhuǎn)數(shù)/分軟啟,軟停,可調(diào)速電器控制系統(tǒng):PC和PLC控制VAC系統(tǒng):進(jìn)口復(fù)合真空計(jì)MFC系統(tǒng):進(jìn)口質(zhì)量流量控制器;進(jìn)口電磁閥APC系統(tǒng)鍍膜沉積控制系統(tǒng):晶控美國(guó)產(chǎn)IC-6,XTC-3S/M,INFICON310.石英晶體感應(yīng)器:1,2,6頭光控控制國(guó)產(chǎn)光控(或進(jìn)口光控)離子源:霍兒源(或考夫曼,RF源)電子束源:10KW180°或270°電子槍深冷系統(tǒng):真空室麥斯納阱擴(kuò)散泵冷阱全程自動(dòng)控制鍍膜以達(dá)到產(chǎn)品ZUI終所需要求。 江蘇工具刀具鍍膜機(jī)廠(chǎng)商真空鍍膜機(jī)可以提高產(chǎn)品的附加值和市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。

河北光學(xué)真空鍍膜機(jī)規(guī)格,鍍膜機(jī)

1. "如何選購(gòu)真空泵?了解抽速是關(guān)鍵!" 2. "單級(jí)真空泵和雙級(jí)真空泵:一般來(lái)說(shuō)單級(jí)泵的極限真空度較差,雙極泵的極限真空度更高。哪個(gè)更適合您的需求?" 3. "螺桿真空泵:高效穩(wěn)定的選擇" 4. "滑閥真空泵:適用于高粘度氣體的理想選項(xiàng)" 5. "真空泵抽速不足?嘗試雙級(jí)真空泵!" 6. "螺桿真空泵:高效能的選擇" 7. "滑閥真空泵:適用于高粘度氣體的選項(xiàng)" 8. "單級(jí)真空泵和雙級(jí)真空泵:哪個(gè)更適合您的應(yīng)用?" 9. "如何選購(gòu)真空泵?了解不同類(lèi)型的優(yōu)勢(shì)!" 10. "真空泵抽速不足?嘗試螺桿真空泵!"

真空鍍膜機(jī)的類(lèi)型有以下幾種:1.磁控濺射鍍膜機(jī):利用磁控濺射技術(shù)進(jìn)行鍍膜,適用于金屬、陶瓷等材料的鍍膜。2.電弧離子鍍膜機(jī):利用電弧放電技術(shù)進(jìn)行鍍膜,適用于金屬、陶瓷等材料的鍍膜。3.激光鍍膜機(jī):利用激光蒸發(fā)技術(shù)進(jìn)行鍍膜,適用于高溫材料的鍍膜。4.離子鍍膜機(jī):利用離子束轟擊技術(shù)進(jìn)行鍍膜,適用于金屬、陶瓷等材料的鍍膜。5.真空噴涂機(jī):利用真空噴涂技術(shù)進(jìn)行鍍膜,適用于金屬、陶瓷等材料的鍍膜。6.磁控濺射離子鍍膜機(jī):結(jié)合了磁控濺射和離子束轟擊技術(shù),適用于金屬、陶瓷等材料的高質(zhì)量鍍膜。磁控濺射真空鍍膜機(jī)可以實(shí)現(xiàn)多種材料的鍍膜,如金屬、合金、氧化物等。

河北光學(xué)真空鍍膜機(jī)規(guī)格,鍍膜機(jī)

    BLLl-1350RS真空鍍膜機(jī)簡(jiǎn)介

該設(shè)備屬濺射高真空鍍膜機(jī),采用分子泵為主泵,避免了返油,鍍膜更牢,能耗更低(與擴(kuò)散泵比節(jié)電50%),效率更高。鍍膜過(guò)程采用全自動(dòng)方式,重復(fù)性更高,一致性更好。達(dá)到高精度、高穩(wěn)定性、自動(dòng)化,實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)化高反射膜(裝飾膜)加保護(hù)膜的蒸鍍,同時(shí)能實(shí)驗(yàn)性做反應(yīng)膜。二.設(shè)備構(gòu)造1.尺寸直徑*高度φ1350*H18002.前開(kāi)門(mén)/前門(mén)位置兩個(gè)觀察窗。3.直空室主體材料為SUS304不銹鋼焊接。三.抽氣性能1.極限真空:*:大氣至*10-3pa≤(保壓):。四.工轉(zhuǎn)架運(yùn)動(dòng)方式。2.公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速0-10轉(zhuǎn)/分鐘,變頻器控制三相電機(jī)。五.整機(jī)控制方式全自動(dòng)PC控制鍍膜或手動(dòng)操作。2.預(yù)編程鍍膜工藝存儲(chǔ),抽真空和鍍膜1鍵完成。3.鍍膜過(guò)程的參數(shù)有實(shí)時(shí)記錄,并自動(dòng)保存,以歷史記錄方式可查。4.工藝過(guò)程中對(duì)參數(shù)有實(shí)時(shí)曲線(xiàn)視覺(jué),并有歷史可查(500GB硬盤(pán),存盤(pán)滿(mǎn)自動(dòng)刷新)。5.全系統(tǒng)具有防呆,互鎖,報(bào)警,缺相等系統(tǒng)功能。6.氣體流量,測(cè)射靶電流,偏壓數(shù)字量控制。7.主機(jī)總功率:100KVA。 真空鍍膜機(jī)是現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)中不可或缺的重要設(shè)備。廣東磁控濺射真空鍍膜機(jī)市場(chǎng)價(jià)格

光學(xué)真空鍍膜機(jī)廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、航空航天等領(lǐng)域。河北光學(xué)真空鍍膜機(jī)規(guī)格

光學(xué)真空鍍膜機(jī)的離子源選擇需要考慮以下幾個(gè)方面:1.離子源類(lèi)型:根據(jù)不同的鍍膜需求,可以選擇不同類(lèi)型的離子源,如離子束源、離子阱源、離子源等。離子束源適用于大面積均勻鍍膜,離子阱源適用于高精度鍍膜,離子源適用于局部鍍膜。2.離子源能量:離子源的能量決定了離子轟擊物體表面的效果,影響著膜層的致密性、平整度和附著力等。一般來(lái)說(shuō),離子源的能量應(yīng)根據(jù)不同的材料和鍍膜要求進(jìn)行調(diào)整。3.離子源流量:離子源的流量決定了離子轟擊物體表面的強(qiáng)度和時(shí)間,影響著膜層的厚度和均勻性等。一般來(lái)說(shuō),離子源的流量應(yīng)根據(jù)不同的材料和鍍膜要求進(jìn)行調(diào)整。4.離子源位置:離子源的位置決定了離子轟擊物體表面的方向和范圍,影響著膜層的均勻性和質(zhì)量等。一般來(lái)說(shuō),離子源應(yīng)位于物體表面的正上方,并且與物體表面的距離應(yīng)適當(dāng)。綜合考慮以上因素,可以選擇合適的離子源,以滿(mǎn)足不同的光學(xué)鍍膜需求。河北光學(xué)真空鍍膜機(jī)規(guī)格

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PLD激光濺射沉積鍍膜機(jī)原理:利用高能激光束轟擊靶材,使靶材表面的物質(zhì)以原子團(tuán)或離子形式濺射出來(lái),并沉積在基片上形成薄膜。電阻蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備原理:通過(guò)電阻加熱使靶材蒸發(fā),蒸發(fā)的物質(zhì)沉積在基片上形成薄膜。電子束蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備原理:利用電子束轟擊靶材,使靶材蒸發(fā)并沉積在基片上形成薄膜。離子鍍真空鍍膜設(shè)備原理:在真空環(huán)境中,利用氣體放電產(chǎn)生的離子轟擊靶材,使靶材物質(zhì)濺射出來(lái)并沉積在基片上形成薄膜。磁控反應(yīng)濺射真空鍍膜設(shè)備原理:在磁控濺射的基礎(chǔ)上,引入反應(yīng)氣體與濺射出的靶材原子或分子發(fā)生化學(xué)反應(yīng),形成化合物薄膜。品質(zhì)鍍膜機(jī),就選丹陽(yáng)市寶來(lái)利真空機(jī)電有限公司,需要的話(huà)可以電話(huà)聯(lián)系我司哦。江蘇PVD真...

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