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首頁 >  環保 >  響水超純水設備方案 歡迎咨詢「碩科環保工程設備供應」

超純水設備基本參數
  • 品牌
  • 翮碩,碩科
  • 型號
  • SK0003
  • 適用領域
  • 電子工業,化工,電鍍,醫藥,食品飲料,多種適用
  • 加工定制
超純水設備企業商機

    超純水設備和純水設備有什么區別,你知道嗎?用途不同:超純水設備的用途:1、超純材料和超純試劑的生產和清洗。2、電子產品的生產和清洗。3、電池產品的生產。4、半導體產品的生產和清洗。5、電路板的生產和清洗。6、其他高科技精細產品的生產。純水設備的用途:1、電廠化學水處理2、電子、半導體、精密機械行業超純水3、食品、飲料、飲用水的制備4、小型純水站,團體飲用純水5、精細化工、精尖學科用水6、其他行業所需的高純水制備7、制藥工業工藝用水8、海水、苦咸水的淡化。 碩科專注于超純水設備的研發、生產與服務。響水超純水設備方案

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    工業edi超純水設備操作方法1、工業edi超純水設備發生故障時請立即關閉自來水進水閥,切斷凈水機的進水,請勿自行拆卸。2、在自來水停水的情況下,請先打開排污水龍頭將自來水管內的泥沙、鐵銹等排盡后,再打開凈化水龍頭使用凈水。3、工業edi超純水設備的總產水量與進水水質有關,如果工業edi超純水設備進水水質較好,則總產水量會上升,反之進水水質差,則總產水量會下降,相應的濾芯使用壽命會略短。4、超過三天不使用工業edi超純水設備,再次使用時應對工業純水設備反復進行順沖洗2-5分鐘,直到工業edi超純水設備內的存水排盡為止。5、隨著工業edi超純水設備的長期使用,其產水量會逐漸下降,但產水水質仍然合格,可放心使用。6、在使用后應一直保持超濾膜濾芯處于濕潤狀態。如果超濾膜濾芯干化,會導致產水量急劇下降并且無法恢復。7、應考慮藥劑與藥劑之間的兼容性,其次應考慮藥劑與膜材料的兼容性。例如,RO系統中經常同時使用混凝劑,助凝劑,殺菌劑,還原劑和阻垢劑。由于天然水中的肢體一般帶負電荷,所以通常使用帶正電荷的陽離子型混凝劑。 響水超純水設備方案碩科超純水設備適應各種水質條件,處理效果好。

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    EDI超純水設備污染判斷及8種清洗方法。雖然EDI超純水設備膜塊的進水條件在很大的程度上減少了膜塊內部阻塞的機會,但是隨著設備運行時間的延展,EDI膜塊內部水道還是有可能產生阻塞,這主要是EDI進水中含有較多的溶質,在濃水室中形成鹽的沉淀。如果進水中含有大量的鈣鎂離子(硬度超過)、CO2和較高的PH值,將會加快沉淀的速度。遇到這種情況,我們可以通過化學清洗的方法對EDI膜塊進行清洗,使之恢復到原來的技術特性。通常判斷EDI膜塊被污染堵塞可以從以下幾個方面進行評估判定:1、在進水溫度、流量不變的情況下,進水側與產水側的壓差比原始數據升高45%。2、在進水溫度、流量不變的情況下,濃水進水側與濃水排水側的壓差比原始數據升高45%。3、在進水溫度、流量及電導率不變的情況下,產水水質(電阻率)明顯下降。4、在進水溫度、流量不變的情況下,濃水排水流量下降35%。膜塊堵塞的原因主要有下面幾種形式:1、顆粒/膠體污堵2、無機物污堵3、有機物污堵4、微生物污堵EDI清洗注意:在清洗或消毒之前請先選擇合適的化學劑并熟悉安全操作規程,切不可在組件電源沒有切斷的狀態下進行化學清洗。

  高純水又名超純水,是指化學純度極高的水,其主要應用在生物、化學化工、冶金、宇航、電力等領域,但其對水質純度要求相當高,所以一般應用**普遍的還是電子行業。在超純水設備的生產過程中,水中的陰陽離子可用電滲析法、反滲透法及離子交換技術等去除,水中的顆粒一般可用超過濾、膜過濾等技術去除;水中的細菌,目前國內多采用加藥或紫外燈照射或臭氧殺菌的方法去除;水中的TOC則一般用活性炭、反滲透處理。在高純水的應用領域中,水的純度直接關系到器件的性能、可靠性,因此高純水要求具有相當高的純度和精度。    石墨烯新材料超純水設備生產廠家。

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    超純水設備采用先進的反滲透膜法水處理技術和成熟的離子交換水處理技術,是目前制取高純水工藝流程中不可替代的手段。超純水生產設備具有產水水質高,而且可以不間斷產水,更是不會產生污水,還節省人工成本,深受工業生產企業的喜愛。超純水生產設備中edi系統適用于水處理行業、電子工業、實驗室超純水、醫院超純水系統等行業用水。如今越來越多的工業生產過程都離不開工業edi超純水設備。但是很多人對它的操作不是很了解,所以小編就重點為大家講述一下工業edi超純水設備的原理,及在使用過程中的操作方法。 超純水設備的清洗方法是什么?響水超純水設備方案

工業超純水設備主要用在哪些行業?響水超純水設備方案

    太陽能電池片超純水設備。太陽能電池片的生產工藝流程分為硅片檢測--表面制絨及酸洗--擴散制結--去磷硅玻璃--等離子刻蝕及酸洗--鍍減反射膜--絲網印刷--快速燒結等。在去磷硅玻璃工藝用于太陽能電池片生產制造過程中,通過化學腐蝕法也即把硅片放在氫氟酸溶液中浸泡,使其產生化學反應生成可溶性的絡和物六氟硅酸,以去除擴散制結后在硅片表面形成的一層磷硅玻璃。在擴散過程中,POCL3與O2反應生成P2O5淀積在硅片表面。P2O5與Si反應又生成SiO2和磷原子,這樣就在硅片表面形成一層含有磷元素的SiO2,稱之為磷硅玻璃。去磷硅玻璃的設備一般由本體、清洗槽、伺服驅動系統、機械臂、電氣控制系統和自動配酸系統等部分組成,主要動力源有氫氟酸、氮氣、壓縮空氣、純水,熱排風和廢水。氫氟酸能夠溶解二氧化硅是因為氫氟酸與二氧化硅反應生成易揮發的四氟化硅氣體。若氫氟酸過量,反應生成的四氟化硅會進一步與氫氟酸反應生成可溶性的絡和物六氟硅酸。 響水超純水設備方案

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