apparatus微流控芯片（OoC）：OoC是一種微工程3D體外組織模型，其中微區(qū)室通過幾個(gè)微流控通道連接。它有助于復(fù)制任何apparatus的生理環(huán)境。此外，它也可用于生化分析。在藥物發(fā)現(xiàn)過程中，重要的是在進(jìn)行臨床試驗(yàn)之前預(yù)測(cè)任何藥物的作用。這一步通常既費(fèi)時(shí)又昂貴。相反，OoC使用微制造技術(shù)以簡(jiǎn)化模擬apparatus的整個(gè)生理部分。它通過減少臨床前測(cè)試和人體試驗(yàn)之間的差距來降低成本并提高吞吐量。Franzen等人對(duì)此進(jìn)行了處理，估計(jì)每種新藥的研發(fā)成本下降了10-26%，因此顯示出積極的成本影響。微流控芯片通過設(shè)計(jì)可以呈現(xiàn)多流道的形式。個(gè)性化微流控芯片設(shè)計(jì)
大腦微流控芯片：與神經(jīng)元和細(xì)胞間相互作用直接相關(guān)的因素在腦組織功能的情況下起著重要作用。大腦及其組織的研究在很大程度上是復(fù)雜的，這使得諸如培養(yǎng)皿或培養(yǎng)瓶之類的2D模型無效，因?yàn)檫@些系統(tǒng)無法模擬大腦的實(shí)際生理環(huán)境。為了克服這一局限性，研究人員目前正在研究開發(fā)大腦微流控芯片平臺(tái)，可以在先進(jìn)的小型化工程平臺(tái)下研究大腦的生理因素，該平臺(tái)可以通過多步光刻技術(shù)制備。它通過制造不同尺寸的微通道進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)了對(duì)腦組織的研究。廣東微流控芯片圖片單分子免疫微流控生物芯片是微流控技術(shù)在超高靈敏度生物檢測(cè)領(lǐng)域的一大應(yīng)用。
微流控芯片,這個(gè)會(huì)通過檢測(cè)血清中infection疾病的特異性抗體，有助于調(diào)查人群中疾病流行情況、監(jiān)測(cè)疾病的傳播的情況，并確定infected患者。研究人員開發(fā)一種高通量的微流控?zé)晒饷庖咝酒梢酝瑫r(shí)檢測(cè)50份血清樣本中多種COVID 19抗體，在COVID 19的前兩周內(nèi)，該方法的敏感度為95%、特異度為91%，對(duì)有癥狀患者，確診率為100%。Dixon等推出一款用于檢測(cè)風(fēng)疹病毒IgG的數(shù)字微流控診斷平臺(tái)，無需樣品預(yù)處理且所有后續(xù)步驟都由平臺(tái)自動(dòng)進(jìn)行。
ThinXXS公司Thomas Stange博士認(rèn)為，雖然原型設(shè)計(jì)價(jià)格高且有風(fēng)險(xiǎn)，微制造技術(shù)已不再是微流控產(chǎn)品商業(yè)化生產(chǎn)的主要障礙。對(duì)于他們公司所操縱的高價(jià)藥品測(cè)試和診斷市場(chǎng)，校準(zhǔn)和工藝慣性才是主要的障礙。ThinXXS于6月推出了一款新的微芯片產(chǎn)品QPlate，同時(shí)宣稱該產(chǎn)品結(jié)合了MEMS硅微處理、微鑄技術(shù)以及印制電路板技術(shù)。QPlate是與丹麥Sophion Bioscience公司合作開發(fā)的，是QPatch-16 system的組成部分，QPatch-16 system可平行的測(cè)量16個(gè)細(xì)胞離子通道。為什么微流控芯片對(duì)我們很重要？
微流控分析芯片當(dāng)初只是作為納米技術(shù)的一個(gè)補(bǔ)充，在經(jīng)歷了大肆宣傳及冷落的不同時(shí)期后，卻實(shí)現(xiàn)了商業(yè)化生產(chǎn)。微流控分析芯片在美國(guó)被稱為“芯片實(shí)驗(yàn)室”（lab-on-a-chip），在歐洲被稱為“微整合分析芯片”（micrototal analytical systems），隨著材料科學(xué)、微納米加工技術(shù)（MEMS）和微電子學(xué)所取得的突破性進(jìn)展，微流控芯片也得到了迅速發(fā)展，但還是遠(yuǎn)不及“摩爾定律”所預(yù)測(cè)的半導(dǎo)體發(fā)展速度。現(xiàn)在阻礙微流控技術(shù)發(fā)展的瓶頸仍然是早期限制其發(fā)展的制造加工和應(yīng)用方面的問題。基于MEMS發(fā)展而來的微流控芯片技術(shù)。湖北微流控芯片的優(yōu)勢(shì)
推動(dòng)微流控芯片技術(shù)的進(jìn)步。個(gè)性化微流控芯片設(shè)計(jì)
微流控芯片的硅質(zhì)材料加工工藝：是在硅材料的加工中，光刻(lithography)和濕法刻蝕(wetetching)技術(shù)是2種常規(guī)工藝。由于硅材料具有良好的光潔度和很成熟的加工工藝，主要用于加工微泵、微閥等液流驅(qū)動(dòng)和控制器件，或者在熱壓法和模塑法中作為高分子聚合物材料加工的陽模。光刻是用光膠、掩模和紫外光進(jìn)行微制造。光刻和濕法蝕刻技術(shù)通常由薄膜沉淀、光刻、刻蝕3個(gè)工序組成。在薄膜表面用甩膠機(jī)均勻地附上一層光膠。然后將掩模上的圖像轉(zhuǎn)移到光膠層上，此步驟首先在基片上覆蓋一層薄膜，為光刻。再將光刻上的圖像，轉(zhuǎn)移到薄膜，并在基片上加工一定深度的微結(jié)構(gòu)，此步驟完成了蝕刻。個(gè)性化微流控芯片設(shè)計(jì)
