賽瑞達(dá)智能電子裝備（無(wú)錫）有限公司2025-06-17

在 MEMS 傳感器制造中，退火用于釋放結(jié)構(gòu)應(yīng)力、修復(fù)刻蝕損傷并激其活摻雜。例如，壓力傳感器的硅膜片需在 1000℃左右的 Ar 氣氛中退火，以提高膜片的機(jī)械強(qiáng)度和穩(wěn)定性；氣體傳感器的金屬氧化物薄膜則需通過(guò) 400-600℃的 O?退火，優(yōu)化表面活性和氣體吸附性能。

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