半導體用氧化退火爐與金屬加工爐的關鍵區別是什么？

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賽瑞達智能電子裝備（無錫）有限公司2025-06-17

半導體用爐要求極高的潔凈度（需符合 ISO 1 級潔凈室標準）、溫度均勻性（±1℃以內）和氣氛純度（氣體雜質含量＜1ppm），且多采用石英腔體避免金屬污染，而金屬加工爐更側重耐高溫和防爆性能。

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簡介：賽瑞達成立于2021年，專注于半導體設備的研發、生產與銷售。公司位于無錫，致力于提供定制化解決方案。

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