氮化鋁陶瓷因具有高熱導率、低膨脹系數、度、耐腐蝕、電性能優、光傳輸性好等優異特性，是理想的大規模集成電路散熱基板和封裝材料。隨著我國電子信息產業蓬勃發展，電子設備儀器的小型輕量化，以及混合集成度大幅提高，對散熱基板的導熱性能要求越來越高，氮化鋁陶瓷的熱導率較氧化鋁陶瓷高5倍以上，膨脹系數低，與硅芯片的匹配性更好，因此在大功率器件等領域，已逐漸取代氧化鋁基板，成為市場主流。但氮化鋁陶瓷基板行業進入技術壁壘高，全球市場中，具有量產能力的企業主要集中在日本，日本企業在國際氮化鋁陶瓷基板市場中處于壟斷地位，此外，中國臺灣地區也有部分產能。而隨著國內市場對氮化鋁陶瓷基板的需求快速上升，在市場的拉動下，進入行業布局的企業開始增多，但現階段我國擁有量產能力的企業數量依然極少。在空氣中，溫度高于700℃時，氮化鋁的物質表面會發生氧化作用。麗水陶瓷氧化鋁價格

氮化鋁因其相對優異的導熱性和無毒性質而成為很常用的材料。它具有非常高的導熱性和出色的電絕緣性能的非常有趣的組合。這使得氮化鋁注定用于電力和微電子應用。例如，它在半導體中用作電路載體（基板）或在 LED 照明技術或大功率電子設備中用作散熱器。氮化鋁耐熔融鋁、鎵、鐵、鎳、鉬、硅和硼。氮化鋁可以金屬化、電鍍和釬焊。它也是一種良好的電絕緣體，如果需要，可以很容易地進行金屬化。出于這個原因，該材料通常用作散熱器或其他需要快速散熱的應用。氮化鋁可以形成大的形狀，也很容易作為薄基板獲得。氮化鋁主要用于電子領域，特別是當散熱是一項重要功能時。高導熱性和出色的電絕緣性使氮化鋁適用于各種極端環境，尤其適用于要求苛刻的電氣應用。氮化鋁的特性是高導熱性、高電絕緣能力和低熱膨脹。麗水陶瓷氧化鋁價格提高氮化鋁粉末的純度，理想的氮化鋁粉料應含適量的氧。

氮化鋁陶瓷是以氮化鋁(AIN)為主晶相的陶瓷。AIN晶體以〔AIN4〕四面體為結構單元共價鍵化合物，具有纖鋅礦型結構，屬六方晶系。化學組成 AI 65.81%，N 34.19%，比重3.261g/cm3，白色或灰白色，單晶無色透明，常壓下的升華分解溫度為2450℃。為一種高溫耐熱材料。熱膨脹系數（4.0-6.0）X10-6/℃。多晶AIN熱導率達260W/(m.k)，比氧化鋁高5-8倍，所以耐熱沖擊好，能耐2200℃的極熱。此外，氮化鋁具有不受鋁液和其它熔融金屬及砷化鎵侵蝕的特性，特別是對熔融鋁液具有極好的耐侵蝕性。性能指標：各種電性能(介電常數、介質損耗、體電阻率、介電強度)優良；機械性能好，抗折強度高于Al2O3和BeO陶瓷，可以常壓燒結；光傳輸特性好；無毒。

AlN陶瓷金屬化的方法主要有：薄膜金屬化（如Ti/Pd/Au）、厚膜金屬化（低溫金屬化、高溫金屬化）、化學鍍金屬化（如Ni）、直接覆銅法（DBC）及激光金屬化。薄膜金屬化法采用濺射鍍膜等真空鍍膜法使膜材料和基板結合在一起，通常在多層結構基板中，基板內部金屬和表層金屬不盡相同，陶瓷基板相接觸的薄膜金屬應該具有反應性好、與基板結合力強的特性，表面金屬層多選擇電導率高、不易氧化的金屬。由于是氣相沉積，原則上任何金屬都可以成膜，任何基板都可以金屬化，而且沉積的金屬層均勻，結合強度高。但薄膜金屬化需要后續圖形化工藝實現金屬引線的圖形制備，成本較高。氮化鋁粉末純度高，粒徑小，活性大，是制造高導熱氮化鋁陶瓷基片的主要原料。

氮化鋁（AlN）具有高導熱、絕緣、低膨脹、無磁等優異性能，是半導體、電真空等領域裝備的關鍵材料，特別是在航空航天、軌道交通、新能源汽車、高功率LED、5G通訊、電力傳輸、工業控制等領域功率器件中具有不可取代的作用。目前用于制備復雜形狀AlN陶瓷零部件的精密制備技術主要有模壓成型、注射成型、凝膠注模成型，它們均為有模制造技術。此外，陶瓷3D打印成型也可實現AlN陶瓷零部件的精密制造，但該方法用于氮化鋁陶瓷成型方面的研究較少，實際應用還有待于進一步的研究，故不在的討論范圍之內。氮化鋁室溫下與水緩慢反應.可由鋁粉在氨或氮氣氛中800~1000℃合成，產物為白色到灰藍色粉末。麗水陶瓷氧化鋁價格

利用AlN陶瓷耐熱耐侵蝕性，可用于制作坩堝、Al蒸發皿等高溫耐蝕部件。麗水陶瓷氧化鋁價格

氮化鋁粉體的制備工藝：高溫自蔓延合成法：高溫自蔓延合成法是直接氮化法的衍生方法，它是將Al粉在高壓氮氣中點燃后，利用Al和N2反應產生的熱量使反應自動維持，直到反應完全，其化學反應式為：2Al(s)+N2(g)→2AlN(s)；其優點是高溫自蔓延合成法的本質與鋁粉直接氮化法相同，但該法不需要在高溫下對Al粉進行氮化，只需在開始時將其點燃，故能耗低、生產效率高、成本低。其缺點是要獲得氮化完全的粉體，必需在較高的氮氣壓力下進行，直接影響了該法的工業化生產。化學氣相沉淀法：它是在遠高于理論反應溫度，使反應產物蒸氣形成很高的過飽和蒸氣壓，導致其自動凝聚成晶核，而后聚集成顆粒。麗水陶瓷氧化鋁價格

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